無掩模光刻可以隨意進行納米圖案化，而不需要緩慢且昂貴的光掩模。這種便利對于研究和快速原型制作特別有用。 POLOS? Beam 在不影響性能的情況下將其帶到桌面上，從而補充了現有的優勢。
當配備405 nm引擎和20倍物鏡時，光束引擎能夠在4″ 晶圓上產生小于 (CD) 0.8 um 的特征。
全功能無掩模光刻機，比臺式電腦還小。
亞微米分辨率，同時在不到兩秒的時間內曝光寫入區域。
壓電致動器與我們的閉合環形對焦光學元件相結合，可在
不到一秒的時間內完成對焦
半自動對齊可在幾分鐘內完成多層對齊。
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