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產(chǎn)品概述

無(wú)掩模光刻可以隨意進(jìn)行納米圖案化，而不需要緩慢且昂貴的光掩模。這種便利對(duì)于研究和快速原型制作特別有用。 POLOS? Beam 在不影響性能的情況下將其帶到桌面上，從而補(bǔ)充了現(xiàn)有的優(yōu)勢(shì)。

當(dāng)配備405 nm引擎和20倍物鏡時(shí)，光束引擎能夠在4″ 晶圓上產(chǎn)生小于 (CD) 0.8 um 的特征。

小型

全功能無(wú)掩模光刻機(jī)，比臺(tái)式電腦還小。

高效

亞微米分辨率，同時(shí)在不到兩秒的時(shí)間內(nèi)曝光寫(xiě)入?yún)^(qū)域。

超快自動(dòng)對(duì)焦

壓電致動(dòng)器與我們的閉合環(huán)形對(duì)焦光學(xué)元件相結(jié)合，可在

不到一秒的時(shí)間內(nèi)完成對(duì)焦

輕松實(shí)現(xiàn)多層對(duì)齊

半自動(dòng)對(duì)齊可在幾分鐘內(nèi)完成多層對(duì)齊。

應(yīng)用范圍擴(kuò)展至微機(jī)電系統(tǒng) (MEM)、生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和微電子器件的設(shè)計(jì)和制造，例如以下領(lǐng)域：

醫(yī)療（包括微流體）
半導(dǎo)體
微電子
生物技術(shù)和生命科學(xué)
先進(jìn)材料研究
市場(chǎng)趨勢(shì)與機(jī)遇

技術(shù)參數(shù)

產(chǎn)品視頻

應(yīng)用領(lǐng)域

下載中心

產(chǎn)品報(bào)價(jià)